Centura 5200平台(tái)是(shì)AMAT自(zì)動(dòng)化(huà)多(duō)腔體(tǐ)設備平台(tái)，可(kě)以(yǐ)安(ān)裝(zhuāng)6个(gè)腔體(tǐ)，刻(kè)蝕腔體(tǐ)有(yǒu)DPS Poly、DPS Metal、eMax、Super-E、MxP、MxP+等，可(kě)用(yòng)于(yú)氧化(huà)矽、氮化(huà)矽、多(duō)晶矽、矽及(jí)金(jīn)屬材料的(de)刻(kè)蝕。CVD腔體(tǐ)有(yǒu)DxZ、CxZ、TxZ、WxZ等可(kě)用(yòng)于(yú)氧化(huà)矽、氮化(huà)矽等介質(zhì)材料及(jí)金(jīn)屬TiN、W的(de)化(huà)學(xué)气(qì)相沉積。Centura 5200平台(tái)空(kōng)間(jiān)利用(yòng)率高(gāo)、傳送平台(tái)穩定(dìng)，可(kě)選配VHP傳送手(shǒu)臂提(tí)升(shēng)設備利用(yòng)率，适用(yòng)于(yú)大(dà)規模中(zhōng)高(gāo)端産線(xiàn)使用(yòng)。同(tóng)时(shí)，設備配備強(qiáng)大(dà)的(de)射頻系(xì)統及(jí)气(qì)路(lù)系(xì)統，可(kě)實(shí)現(xiàn)多(duō)種(zhǒng)工藝的(de)兼容开發(fà)。可(kě)根(gēn)據(jù)不(bù)同(tóng)的(de)工藝要(yào)求選擇适用(yòng)的(de)配置，人(rén)機(jī)界面(miàn)操作(zuò)簡單，設備市(shì)场(chǎng)保有(yǒu)量(liàng)大(dà)，備件(jiàn)渠道(dào)完善。